鋁合金蝕刻（kè）加工（gōng）工（gōng）藝之晶間腐蝕介紹:
晶間腐蝕在鋁合金局部腐蝕中（zhōng）和點蝕一樣，也是一種（zhǒng）常見的腐蝕現象.這種腐蝕是沿著晶界或者在其（qí）近旁發生，所以稱之為晶間腐蝕。關於晶間腐蝕的成因，普遍認為（wéi）是由晶界與相鄰晶粒之間的電位差（chà）造成的。以AI-Cu-Mg合金為例，在時效脫溶之後，晶界有一條（tiáo）無沉澱帶（dài），含Cu較少（shǎo），電（diàn）位較負，構成陽極相。晶粒內含Cu較高，電（diàn）位較正，構成了陰極（jí）相。

在腐蝕過程中，電（diàn）位較負的貧Cu區將被優先腐蝕，並隨著鋁的溶解（jiě），晶粒（lì）中孤（gū）立的Cu也隨之進人溶液，尤其是陰（yīn）極相中鋁的溶解使Cu直接進人溶（róng）液，生成Cu2+。由於Cue+的氧（yǎng）化還原電位很正(相對於鋁（lǚ）的電（diàn）位)，所以會在鋁表麵（miàn）的陰極區還原析出，這種析出過程（chéng）稱（chēng）之為二次沉澱。
由於這種二（èr）次沉澱行為，使鋁在腐蝕介質中又形成新的富Cu陰極相，使上一腐蝕過程重（chóng）複進行。這一現象對鋁的保護來說要盡力避免。但在鋁合金表麵紋理蝕刻中，晶間（jiān）腐蝕同樣是紋理的（de）又一成因，特別是具有針（zhēn）狀晶粒結構的（de）材料對於絲狀紋（wén）理的形成更為重要.為達到這一（yī）目的，可以在（zài）腐蝕介質中加人適量的（de）氧化還原電位較正的金屬離子或氧化性陰（yīn）離子，以達到對鋁合金表麵絲狀紋理蝕刻強化的（de）目（mù）的。

但這隻能對那（nà）些具有絲（sī）狀紋理腐蝕傾（qīng）向的合金材料才有明顯作用。也有資料介紹在有抑製劑的（de）電解質（zhì）溶液中，通過外加電場的作用對鋁合金表麵進行絲狀（zhuàng）紋理蝕刻。
通過有限的試驗發（fā）現（xiàn），對於那些不具有絲狀（zhuàng）紋理腐蝕傾向的合金材料效果並不明顯，若要普遍用於批量生產，還有待於進一步研究。
在蝕刻過程中，由於電位差的緣故，有可能是沿晶粒的邊界先蝕刻，然後整個晶粒被蝕刻溶解。所以在晶粒尺（chǐ）寸較（jiào）大（dà）的材料上進行紋理（lǐ）蝕刻更容易獲得粗糙（cāo）度高的紋理效果。但（dàn）過大的晶粒尺寸經蝕刻後將會影（yǐng）響到材料的強度，特別是經較長時間的蝕刻，其影響程度更大。所以在進行紋理蝕刻時，控製蝕刻時（shí）間(也即是控（kòng）製對材料的蝕刻量)是（shì）很重要的。
關於鋁的應力腐蝕、剝蝕（shí）等腐蝕行為，與紋理（lǐ）蝕刻相關性較小，在此不做過多介紹。

總而言之，對於鋁合（hé）金的化學紋理（lǐ）蝕刻（kè），其（qí）實就是對鋁合金（jīn）表麵的腐蝕過程。
從以上鋁（lǚ）的腐蝕行為來看，鋁的基本腐蝕類型（xíng）主要有:均勻腐蝕、點蝕（shí）、晶間腐蝕、分（fèn）層腐蝕和（hé）腐蝕破（pò）裂等。如鋁合（hé）金某一部分與其他（tā）較大部分有電位差，則產生點蝕;如鋁合金的晶粒（lì）和晶界間存在著電位（wèi）差，則有晶間腐蝕的傾向;若有應力存在時這種晶間腐蝕就會促進（jìn）金（jīn）屬的腐（fǔ）蝕破裂。

在這些腐蝕類型中受控點蝕和晶（jīng）間腐蝕是紋（wén）理蝕刻需（xū）要的，其餘則需力求避免。為達到（dào）這一（yī）目的，關鍵（jiàn）是如何控製不同的腐蝕條件和腐蝕環境，以便造成不同（tóng）的腐蝕傾向，得到不同質地和外觀的紋理效果。鋁的合金類型多，影響因素多，關（guān）係比（bǐ）較複（fù）雜，如不（bú）同牌號的合金材（cái）料（liào），有不同的合金元素（sù）組成、晶（jīng）粒（lì）構成、合金成分或雜質在合金表麵的分布均勻度。

即便是同（tóng）一種（zhǒng）牌號的合金材料，也可因批次不（bú）同、加工方法不同或其他因素的影響（xiǎng），內（nèi）部存在（zài）不同的金（jīn）相組織。另外，在腐（fǔ）蝕前合金材料的（de）表麵狀態、加工成形方法以及腐蝕介質在腐蝕過程中成分（fèn）含量的變化等（děng）因（yīn）素都會影響到（dào）紋理的形（xíng）成與（yǔ）質地（dì）。所以要想研究（jiū）出一種（zhǒng）能廣泛適用於各種鋁合金材料，並能任意控製紋（wén）理粗糙度的化學紋理蝕（shí）刻液是比較困難的。

在實際應用中，隻能通過選擇合適（shì）的合金材料和與之相適應的紋理蝕刻液;或將材料進（jìn）行熱處理(比如那些條（tiáo）紋（wén）腐蝕較嚴重而又得不到均勻紋（wén）理的（de）鋁合金材料)消除位錯缺陷並控製適當的晶粒尺（chǐ）寸，再（zài）選擇與之相適應的紋理蝕刻液，才能蝕刻出粗（cū）糙度可調、質地均（jun1）勻的紋（wén）理。