蝕刻(kè)加工常見問題及(jí)解決方法
蝕刻(kè)加工的針對性很強,金屬通常是通過化學蝕刻來加工的,所以(yǐ)蝕刻也(yě)可以稱為化學蝕(shí)刻。化(huà)學蝕刻在(zài)加(jiā)工中(zhōng)常見的問題(tí)如下:
1.表麵粗糙的蝕刻表麵在蝕(shí)刻(kè)後(hòu)有麻點和(hé)凹槽。主要原因是蝕刻液中酸性蝕刻液濃度過高,蝕刻後酸洗不幹淨。解決方法是調整(zhěng)蝕刻液中各成分的濃度,使其達到規定的工藝範(fàn)圍。
2.蝕刻部(bù)分有凹坑。這是因(yīn)為蝕刻溶液中NaOH和AI3的濃(nóng)度太高。稀釋蝕刻溶(róng)液並降低(dī)濃度。
3.輪廓邊緣線很模糊。在這種情況下,是因為蝕刻件的原料表(biǎo)麵沒(méi)有清洗幹淨,有氧化膜、化學汙染、墨(mò)水等。解決的辦法是建立一套有效合理的清洗工藝,在(zài)曝(pù)光和顯(xiǎn)影前對原材料進行清洗。

青島大東電子有限公司:
青島大東電子有限公司成(chéng)立於1995年(nián),坐落於山東省青島平度(dù)市同和工(gōng)業園,距離青島機場40分鍾,建築麵積(jī)19600平方米,交通(tōng)便利。公司為韓國獨資企業,注冊資本375萬美元(yuán)。到2023年,公司已踏實走過28個春秋,公(gōng)司擁有電鍍、蝕刻、氧化、真空鍍、激光、噴漆等各種表麵處理產線,可進行標(biāo)牌,其他金屬物以及素材多樣的製造加工工程,是集研發、設計、 ...
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