歡迎您(nín)進入青島大東電子(zǐ)有限公司

精(jīng)密蝕刻(kè)加工,不鏽鋼蝕刻,鋁板腐蝕,-青島大東五(wǔ)金蝕(shí)刻加工廠

29年專注金屬(shǔ)蝕刻生產廠家(jiā)國家重點五(wǔ)金蝕(shí)刻精密加工的生產廠家

全國谘詢熱線

16678559128
當前位置:主頁»新聞動(dòng)態(tài)»公司新聞

  不鏽(xiù)鋼蝕刻標牌加工工藝解析

文章出處:不鏽鋼蝕刻標牌 人氣:發表時間:2025-09-08 08:47

  
  一、技術原理‌
  不鏽(xiù)鋼蝕刻標牌通過化學腐蝕在金屬表麵形成永久性圖文。其核心流程包括:1)表麵預處理(除油、拋光);2)塗覆光敏抗蝕劑;3)紫外線曝光顯影;4)化學蝕刻(三氯化(huà)鐵溶液);5)去膜鈍化處理。該工藝可實現0.1毫米線寬精度,深度公差±0.02毫米。
  二(èr)、材料選擇‌
  常用不鏽(xiù)鋼蝕刻標牌(pái)號:
  304:通用(yòng)型,耐腐蝕性中等,成本較低
  316:含鉬元素,抗氯離子腐(fǔ)蝕能力提(tí)升50%
  厚度範圍:0.5-2毫米(工(gōng)業標牌常用1.2毫米(mǐ))
  三、工藝流程‌
  數據準備‌
  客戶提供矢量圖(AI/CDR格式)或CAD文件
  輸出300dpi以上(shàng)分辨率菲林底片
  基材處理‌
  堿性除油(NaOH 100g/L,50℃浸泡3分鍾)
  機械拋光(表麵粗糙度Ra≤0.2μm)
  塗布曝光‌
  滾塗感光幹膜(厚度25μm±5μm)
  紫外線曝光(能量300mJ/cm²)
  化學蝕(shí)刻‌
  蝕刻液:三氯化鐵(FeCl₃)濃度38-42%
  溫度(dù)控製:45±2℃
  蝕刻速率:15μm/分鍾
  後處理‌
  3% NaOH溶液去膜
  20%硝酸鈍化處理(lǐ)
  四、工藝參數‌
  項目 標(biāo)準值 允許(xǔ)偏差
  線寬 ≥0.1mm ±0.01mm
  深度 0.05-0.3mm ±0.02mm
  側(cè)蝕比 ≤1:0.8 -
  五、質量控製要點‌
  曝光能量偏(piān)差需控製在±5%以內
  蝕刻液(yè)Fe³⁺濃度低於20g/L時需更(gèng)換
  每批次抽檢5%樣品進行二次元測量
  六、應用領域‌
  工業設備:耐(nài)磨損銘牌(壽命≥8年)
  電子行業:PCB板二維碼標識(識別率99.7%)
  醫療器械:消毒追溯(sù)碼(通過ISO 13485認證)
  七、環保措施‌
  廢液(yè)處理:Ca(OH)₂沉澱法(Fe³⁺殘(cán)留<0.5ppm)
  能耗:化學蝕(shí)刻0.8kWh/m²,電解(jiě)蝕刻2.2kWh/m²
  八、服務標(biāo)準‌
  交期:常規訂單(dān)72小(xiǎo)時(加急24小時)
  最小訂單量:0.5平方米
  包裝:珍珠棉+防潮膜+硬質紙(zhǐ)箱

推薦產品

同類文章排行

最新資訊文章

网站地图 91视频网站_91视频入口_www.91_黄色91