開料→清洗板材（cái）→幹膜或塗布→焗爐烘（hōng）幹→曝光→ 顯影（yǐng）→蝕刻→脫膜（mó）→檢（jiǎn）測包裝

　　目的：除去蝕刻 工（gōng）件表麵的防鏽油、潤滑油、乳化液及工作人員分泌的汗漬油脂等。成份組成：氫氧化鈉、碳（tàn）酸鈉等堿性（xìng）物質及十二烷基苯磺酸鈉等。清洗不完全，塗布工序中保護膜脫落，保護（hù）膜與 蝕刻（kè） 工件的接合力，使 蝕刻（kè） 過（guò）程中保護膜脫落，造（zào）成工（gōng）件的損壞。

　　2. 塗布（bù）(塗布感光油墨)

　　可以采用滿（mǎn）版印刷、刷塗、滾塗或噴塗的方式，對油墨塗層的均一性要求不是很高，能保證塗層在（zài）蝕刻時，對蝕刻 產品需保護部位充分的保護。此工序和製作網板中的塗布工序差不多，隻是製作網板是在網砂上塗感光油墨，而金屬蝕刻是直接在工件（jiàn）表麵塗布。

　　3.焗爐烘幹

　　焗（jú）爐烘幹采用全自動化產線，視金屬材料的（de）要求和厚度，烘幹時間不等，目的隻是防止曝光時感光油墨粘住菲林，要在暗室中進行操作（zuò）。
         

　　4 .曝光

　　曝光在紫外光的照射下，光引（yǐn）發劑吸收光能分解成遊離基，遊離（lí）基再引發不聚合單體進行聚合交聯反應，反應（yīng）後形成不溶於稀堿溶液的體形大（dà）分子結構。曝光（guāng）一般在自（zì）動麵曝光機內進行。曝光成像質量除幹膜光到抗蝕劑的性（xìng）能（néng）外，光源的（de）選擇，曝光（guāng）的時間的控製，照相底版的（de）質量（liàng）等，都是影響曝光成（chéng）像質量的（de）重要因素。

　　5.顯影

　　曝光（guāng）的鋼片放入顯影機顯影，用5‰~12‰Na ₂CO₃溶液，顯（xiǎn）影溫度30℃~40 ℃，顯影時活性基團羧基 -COOH與Na₂CO₃反（fǎn）應，生成親水性基（jī）團（tuán） -COONa ，從而把未曝光的部（bù）分溶解下來（lái），而曝光部分的幹膜不被溶解，保留（liú）在板麵上使圖案部分基材不被藥水蝕刻。

　　6.蝕刻

　　通常蝕刻也（yě）稱光化學蝕刻，指（zhǐ）通過曝光製版、顯影，將要蝕刻的區域去除。在蝕（shí）刻時接觸化學溶液，使用兩個陽性圖形，通過從兩麵的化學研磨達到溶解腐蝕的作（zuò）用，形（xíng）成凹凸或者鏤空（kōng）成型的效果。化學蝕刻是很有針對性的，專指受控腐蝕，是金屬通過化學（xué）方法進行一（yī）種可以控製的加工方法。

　　7.脫墨(退膜)

　　通過較高濃度的NaOH(1-4%),將其加溫到50℃左右，NaOH具有強腐蝕性，其與基材表麵的感光材料發生化學反應，將基材表麵的感光材料剝離。

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