五金蝕(shí)刻技術(shù)的核心說明(míng)

以下是五金蝕刻技術的核心細節說明,涵蓋工藝流程、參數控製及關鍵技術要(yào)點:
材料選(xuǎn)擇與預處理
適(shì)用材料:不鏽鋼(SUS304/SUS316)、銅合金(C5191磷銅)、鋁材(5052/6061)、鈦合金及鎳基合金,厚(hòu)度範圍0.05–3.0mm。
表麵處理:
脫脂:堿性溶液(NaOH 100–150g/L,溫(wēn)度50–80℃)超聲清洗3–5分鍾。
酸洗:硝酸或鹽酸去除氧化(huà)層,銅材需退(tuì)火處理(300–500℃)以消除內(nèi)應力。
平整度要求:≤0.1mm/m,表麵油脂殘留≤0.1mg/cm²。
圖形轉(zhuǎn)移工藝
掩膜製作:
光刻(kè)膠塗布:旋塗法(轉速3000rpm對(duì)應膠厚1μm)或噴塗法,膠層厚度8–30μm。
曝光:紫外光(guāng)(波長365nm,能(néng)量50–80mJ/cm²)通過掩膜板轉移圖案,定位誤差≤±2μm。
顯(xiǎn)影(yǐng):正膠用NaOH溶液,負膠(如SU-8)保留曝光區,顯影時間40–60秒。
五金蝕刻液配方與參(cān)數:
| 材(cái)料 | 蝕刻液成分 | 溫度(℃) | 速率(mm/min) | 深度控製方式 |
|-------------|-----------------------|----------|--------------|----------------------|
| 銅 | FeCl₃(28–32波美度) | 40–50 | 0.02–0.06 | 時間控製(±0.01mm) |
| 不鏽鋼 | HNO₃=3:1 | 45–50 | 0.05–0.10 | 噴淋(lín)壓力調(diào)節 |
| 鋁 | NaOH堿性溶液 | 50–60 | 0.03–0.08 | 濃度監測儀 |
精度控製技術
側蝕抑製:
添加緩蝕劑(如醋酸)降低橫向腐蝕,側壁垂直度達85–89°。
噴淋蝕刻設備減少溶液滯留,提升均勻性(波動≤±5%)。
微(wēi)結構能力:
最小線寬0.02mm,孔徑0.03mm(密度(dù)≥800孔/cm²)。
深寬比1:3,適用於微通道、異(yì)形濾(lǜ)網。
後處理關鍵步驟
去膜:
有機掩膜:丙酮浸泡或氧等離子體灰化。
無機掩膜(如Ti/Au):碘伏溶液腐蝕去除。
表麵強化(huà):
電解拋光:降低粗糙度至Ra≤0.1μm。
鈍(dùn)化處理:鉻酸鹽溶液(濃(nóng)度3–5%)提升耐蝕性。
功能性鍍層:電鍍(dù)鎳/金增強(qiáng)導電性(電子部件)。
環保與(yǔ)效率優化
廢(fèi)液處理:
中和沉澱(diàn)(碳酸鈉調節pH),銅離子濃度≤0.5mg/L。
工藝創新:
納米(mǐ)壓印替代(dài)光刻,分辨率提升至50nm。
幹法蝕刻(等離子體)減少化學廢液,用(yòng)於MEMS器件。
以上數據(jù)基於行業標準工藝及設備參數,實際應用需根據材料特性調整溶液(yè)配(pèi)比與時間。
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