什麽是蝕刻?蝕刻過程涉及哪些工序?

　　什（shí）麽是蝕刻?通常指光化學蝕刻。這就意味著在通過製版曝（pù）光和顯影之後，要（yào）蝕刻的區域中（zhōng）的保護膜被去（qù）除。蝕刻時，使金屬與化學（xué）溶液接（jiē）觸，利用兩個正圖案，從兩麵進行化學研磨，達到（dào）溶解腐蝕的效果，形成凹凸或鏤空成型。化學蝕刻很有（yǒu）針對性（xìng），特指可（kě）控腐蝕，是通過化學（xué）方法對金（jīn）屬進行可控加工的方法。蝕刻（kè）包括幹蝕刻（kè）和濕蝕刻。幹法刻蝕可分（fèn）為反應離（lí）子刻（kè）蝕(RIE)、濺射刻蝕和氣相刻蝕。

　　對比蝕刻和衝壓工藝（yì）的（de）特點，蝕刻的優勢在於製樣成本低（dī），蝕刻範（fàn）圍內幾乎（hū）所有金（jīn）屬，對金屬硬度沒有（yǒu）要求，無劃痕，無毛刺，設計快速，簡單，效率高，製造過程48小時，材料厚度對公差影響10%，產品封裝和（hé）轉移方便。衝壓製造成本高，盡管所有金屬都（dōu）可以進（jìn）行（háng），但是硬（yìng）度過大或過小，容易（yì）破損的金屬（shǔ）無法使（shǐ）用，切割邊緣有劃痕，局部有毛刺，如（rú）果在設計過（guò）程中改變工藝非常耗時，成本高（gāo），工藝至少需要幾周，產品的包（bāo）裝和轉（zhuǎn）移困難。

       

　　涉及（jí）十個蝕刻過程:

　　1.工程製（zhì）圖。蝕刻工藝主要為圖紙定製，可蝕（shí）刻（kè）厚度為0.03MM-2.0MM的各（gè）種材料;;公差可以（yǐ）控製在0.0075mm，工程圖主要是CAD工（gōng）程（chéng）圖。

　　2.原材料的準備。卓達蝕（shí）刻工藝（yì）主要涉（shè）及不鏽鋼(201、202、301、304、316和400)、銅、鋁（lǚ）合金和鈦合金，其中不（bú）鏽鋼（gāng）(201、202、301、304、316和400)涉及較多。

　　3.處理（lǐ）。通過噴油清除材料表麵的油汙、灰塵、汙垢和氧化膜。清洗工藝是保證後續薄膜或絲網印刷油墨對金屬表麵（miàn）具有良好附著力的關鍵。

　　4.壓製(層壓)。根據需要雙（shuāng）麵塗（tú）布光敏膠，在塗布光敏（mǐn）層時（shí），產品圖案所需（xū）的蝕刻時間可考（kǎo）慮較厚或較薄的膠層，覆蓋性能好，金屬蝕刻產生的圖案（àn）清晰度更高。

　　5.曝光。光掩模紫外曝光轉移成像。

　　6.發展中。曝光後，圖案固化，被腐蝕的部（bù）分曝光（guāng），去掉（diào）產品不需要的光敏膠層。

　　7.烘幹。去除感光膠，使金屬表麵清潔，無粘連、雜質等。

　　8.蝕刻。金屬被蝕刻液腐蝕（shí），過程涉及溶液的濃度、溫度、壓力、速度等參數。

　　9.剝（bāo）離(剝皮操作)。蝕刻後，用（yòng）酸堿中和（hé）的方法使（shǐ）殘（cán）留的光敏膠層膨脹，用清水和超聲波（bō）清洗多餘（yú）的光（guāng）敏膠層。

　　10.檢查包裝和交付。標準化（huà）包裝，將每件產品放入相應的包裝盒內，並登記相應的明細。

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