工（gōng）藝原理

　　金屬蝕（shí）刻通過化學（xué）或物理方法去除材料表麵。化（huà）學蝕刻使用（yòng）酸性溶液，典（diǎn）型腐蝕速率0.01-0.05mm/min。光刻工藝分辨率達10μm，電解蝕刻精度±0.02mm。常見加工材料包（bāo）括不鏽鋼、銅合金和鋁材。

　　生產流程

　　基材準（zhǔn）備：進行脫脂、酸洗預處理

　　掩膜製作：采用光（guāng）刻（kè）膠或絲（sī）網印刷

　　蝕刻處理：使用三氯化鐵或硝酸溶液

　　後（hòu）道工序：包含去膠、清洗步驟

　　質量檢測（cè）：使用光學顯微鏡檢查

　　技術參數

　　加工厚度：0.05-3mm範圍（wéi）

　　公差控製：±0.05mm標準級

　　最小線寬：化學蝕刻0.1mm

　　表麵粗糙度：Ra0.8-3.2μm

　　蝕刻斜度：15-45度範圍（wéi）

　　設備配置

　　蝕（shí）刻機：槽體容積500-2000L

　　噴淋係統：壓力0.2-0.5MPa

　　溫控裝（zhuāng）置：精度±1℃

　　廢氣處理（lǐ）：活性炭吸附塔

　　水循環係統：PH值6-8

　　應用（yòng）領（lǐng）域

　　電子行業：電路（lù）板加工

　　儀器儀表：刻度盤製作

　　裝飾製品：金（jīn）屬花（huā）紋蝕刻

　　汽車零（líng）件：濾網加工

　　航天部件：薄壁結構件

　　質量控（kòng）製

　　執行GB/T 13911-2008標準。使用二次元測量（liàng）儀檢測尺寸，粗糙度儀測試表麵質量。金相分析判定蝕刻均勻性，鹽霧試（shì）驗評估耐腐蝕性。

　　發展趨勢

　　精密掩膜技術提升

　　環保蝕刻劑（jì）研發（fā）

　　自動化生產線應用

　　複（fù）合（hé）加工工藝結合

　　在線檢測係統集成