光學器件的性能高度依賴表麵形貌的精確控製，蝕刻技術通過原（yuán）子（zǐ）層級的材料移除，成為光路設計與（yǔ）功（gōng）能實現的（de）核心（xīn）工藝。

在LED芯片的製造中，藍寶石襯底的圖案化處理直接影響光提取效率。氫氟酸與磷酸的混合溶液在高溫條件下對藍寶石（shí）進（jìn）行各向異性腐蝕，形成周期性排列的微金字塔結構。這種結構通過改變光線的全反射路徑，增（zēng）加光子逃逸概率，從而提升（shēng）器件的發光效（xiào）率。工藝（yì）難點在於平衡蝕刻速率與表麵粗糙度，需通過溶液濃（nóng）度配比和溫度（dù）梯度控製實現最優解。

衍射光學元件（DOE）的加工則依賴等離子體蝕刻技術。以（yǐ）矽基材料為例，通過調節反應氣體中氟碳化合物（wù）與氧（yǎng）氣的比（bǐ）例，控（kòng）製蝕刻的各向異性程度。氟碳基（jī）團在側壁形成鈍化（huà）層，防止橫向腐（fǔ）蝕，確保光柵結構的垂直（zhí）度。同時，離子轟擊能量的調整可（kě）優化底部蝕刻速（sù）率，實現高深寬比結構的穩（wěn）定成形（xíng）。此類元件廣泛應用於激光整形、AR/VR設備的（de）近眼顯示（shì）等（děng）領域。

增（zēng）強現實（AR）眼鏡的波導片製造是蝕刻技術的另一典型（xíng）應用。鈉（nà）鈣（gài）玻璃基板通過氫氟酸溶液腐蝕形成納（nà）米級光柵（shān）結構，光（guāng）波在波（bō）導（dǎo）內（nèi）部通過全反射傳輸（shū），最終通過光柵耦合實現圖像輸出。工藝過程中需精確控製蝕刻深度與周期，避免光場分布不均或耦出效率下降。濕法蝕刻的均勻（yún）性優（yōu）勢在此（cǐ）類大麵積光學元件的批量生產中尤為突（tū）出。